多晶硅还原炉清洗的意义你了解吗？

油脂、水分、氯离子残留、金属氧化物、氯化物、灰尘及其他杂质，对多晶硅的纯度影响极大。在多晶硅设备制造、安装和多晶硅生产过程中清洗是十分重要的部分，要按多晶硅生产工艺，对不同洁净度要求、不同材质的设备采用不同的清洗方法。

多晶硅设备安装阶段的清洁

由于工艺管道输送的介质特性及产品纯度要求，对管道的焊接质量及内部清洁、吹扫试压均有较高要求，对设备进场验收、检验及安装、内部处理也有较高要求，因此设备制造结束后的清洗处理至关重要。在装置进行试生产前期，系统注入四氯化硅进行循环清洗约2～3个月，时间的长短取决于设备前期清洗情况。

多晶硅设备生产期间的清洗

多晶硅还原炉和氢化炉是改良西门子法生产多晶硅的核心设备，其运行好坏直接影响多晶硅质量及生产成本。多晶硅生产对还原炉的沉积环境的洁净度要求特别关键，任何颗粒性杂质、油脂等物质余留在炉内，都会对产品质量造成影响。多晶硅自动化还原炉钟罩清洗系统，可以完全将多晶硅还原炉钟罩清洗干净，满足生产需求。

在整个还原炉的清洗过程中，清洗、干燥中筒内形成微负压状态，防止清洗外溢，同时将底座与筒体下法兰处的污染物等一并吹扫，通过排污管排出，从而保证了整个过程不会对洁净区造成污染。

生产多晶硅的工艺复杂，设备清洗是可以降低能耗保证多晶硅产品质量的。多晶硅生产企业对设备须从选型、选材、清洗等方面进行合理、科学的管理，应用现代技术，进行全程清洗，以充分发挥设备功效，为安全、高效生产创造条件。

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多晶硅还原炉